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申報人在上海微電子裝備（集團）股份有限公司任職產(chǎn)品經(jīng)理期間，成功研發(fā)了微米級、亞微米級及100nm量級掃描步進運動平臺，廣泛應(yīng)用于先進封裝、前道測量及Fanout工藝檢測設(shè)備。同時，他深度參與了國家863項目及02專項90nm光刻機研發(fā)，負責(zé)光刻機核心部件物鏡像質(zhì)調(diào)試，并主導(dǎo)像傳感器光電核心部件開發(fā)，助力光刻機技術(shù)國產(chǎn)化。期間，他發(fā)表多篇SPIE會議論文，榮獲多項發(fā)明專利及專利成就銀獎。 轉(zhuǎn)至江蘇集萃蘇科思科技有限公司擔(dān)任研發(fā)總監(jiān)后，申報人帶領(lǐng)團隊成功研發(fā)國內(nèi)首臺BFI前道明場晶圓缺陷檢測設(shè)備的國產(chǎn)核心部件，性能指標媲美國外先進產(chǎn)品。同時，自主研發(fā)單軸精度±50nm的超精密氣浮運動平臺，填補國內(nèi)納米級高端運動產(chǎn)品市場空白。 在控制系統(tǒng)研發(fā)領(lǐng)域，他推動團隊開發(fā)出SAXCS高性能實時控制系統(tǒng)和sMA-RT高性能多通道實時控制系統(tǒng)，為產(chǎn)品革新提供技術(shù)支持。此外，帶領(lǐng)團隊深入開發(fā)主動隔振與反作用力補償技術(shù)、測試測校和誤差補償技術(shù)，顯著提升產(chǎn)品性能和市場競爭力，為公司創(chuàng)造超1億元營收。同時，作為項目負責(zé)人，他主持多項科研項目，獲批經(jīng)費超1000萬元，展現(xiàn)出卓越的領(lǐng)導(dǎo)力和創(chuàng)新能力。

申報人專注于光刻技術(shù)、半導(dǎo)體散射測量、封裝缺陷檢測及超精密運動系統(tǒng)等核心領(lǐng)域，擁有16年半導(dǎo)體設(shè)備研發(fā)、產(chǎn)品開發(fā)及團隊管理經(jīng)驗。其技術(shù)專長覆蓋半導(dǎo)體光刻與檢測設(shè)備應(yīng)用、整機系統(tǒng)開發(fā)、性能建模分析、精密光學(xué)與運動系統(tǒng)研發(fā)等多個維度。 在研發(fā)實踐中，申報人主導(dǎo)了多款檢測設(shè)備中運動臺系統(tǒng)的開發(fā)，深入探索了從微米至納米級多自由度運動系統(tǒng)的應(yīng)用需求、架構(gòu)設(shè)計、測試校準等，尤其在精密運動與光電系統(tǒng)融合的研發(fā)上展現(xiàn)卓越能力，有效提升了系統(tǒng)性能，并對運動引起的圖像誤差處理有豐富實戰(zhàn)經(jīng)驗。 技術(shù)亮點包括：1）控制系統(tǒng)設(shè)計與開發(fā)，利用模型開發(fā)實現(xiàn)高性能、低延時控制；2）精密運動控制技術(shù)，掌握氣浮滑臺與主動隔振技術(shù)，確保系統(tǒng)動態(tài)響應(yīng)與運動精度；3）硬件架構(gòu)與嵌入式系統(tǒng)設(shè)計，依托SoC+FPGA架構(gòu)提升產(chǎn)品可靠性和性能；4）控制算法研發(fā)，基于模型設(shè)計平臺，達成高效低延時控制；5）在光刻與半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，取得物鏡像質(zhì)測量、散射測量技術(shù)預(yù)研、硅片對準系統(tǒng)研發(fā)及前道IC缺陷檢測、明場檢測、套刻測量設(shè)備等重要成果。

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